1.工藝特點：
????陰極電流電流效率高，可達22-26%
????可使用電流密度高達60安培/平方分米以上，沉積速度因此極大提高
????與其它的混合催化劑鍍鉻工藝不同，rc-25不含氟化物，不會浸蝕工件的低電流區
????鍍層的顯微硬度達1000-1100khn100鍍層的微裂紋數可達1000條/英寸，防腐蝕能力因而提高
????鍍層平滑，細致光亮
????鍍層厚度均勻，減少高電流密度之過厚沉積
????不會浸蝕鉛錫陽極，無需使用特殊陽陰極材料
????前處理流程、陽極、鍍槽等均與一般傳統鍍鉻工藝一樣
2.鍍液組成及操作條件：
鍍液組成及工藝條件
標準開缸
適用范圍
鉻酐
240克/升
225-275克/升
純硫酸
2.7克/升
2.5-4.0克/升
rc-25k開缸劑
20毫升/升
10-30毫升/升
陰極電流密度
60安培/平方分米
30-75安培/平方分米
陽極電流密度
30安培/平方分米
15-35安培/平方分米
工作溫度
58℃
50-60℃
3.設備要求：
鍍槽：硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可，槽邊應有抽風設備；
整流器：要有足夠的容量與鍍槽配套，波紋系數小于5%，電壓不小于15v；
陽極：使用的陽極為鉛錫合金（錫：7%）或鉛銻合金，輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金；
加熱器：選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料；
冷卻管：選用鈦或鉛材料；
過濾泵：過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。
4.鍍液配制方法：
在清洗過的鍍槽子內加入三分之二的蒸餾水或去離子水，并加熱至55-60℃；
將計算量的鉻酐（250克/升）緩慢加入槽內，攪拌使其全部溶解；
加入rc-25k開缸劑20毫升/升；
分析所含硫酸濃度，并調整至2.7克/升；
?加入適量的鉻霧抑制劑；
?電解4-6小時，便可開始試鍍。
5.添加劑的作用和補充：
?rc-25k???開缸劑rc-25k通常只用于新配鍍液，或作補充帶出損耗；
rc-25r????補充劑rc-25r用于鍍液的補充添加：每補充1公斤鉻酐添加100毫升rc-25r
6.雜質影響：
對一般硬鉻鍍液有害的雜質亦同樣會影響rc-25鍍液。三價鉻及金屬（鐵、銅、鎳）雜質過多時，會降低鍍液的導電性能，使鍍層粗糙。總雜質含量不能超過7.5克/升，氯離子含量亦不宜超過100pm.
7.轉缸法：
由一般傳統鍍硬鉻工藝轉為rc-25的程序非常簡單只需分析并調整鍍液中金屬雜質含量不大于7.5克/升，氟化物含量不能超過0.2克/升，把鉻酸酐含量調整到240克/升，按開缸量添加rc-25k即可

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