應用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業。
該系列設備主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。 主機控制采用可編程序控制器（plc）+觸摸屏（hmi）組合電氣控制系統。全自動控制，配置先進大功率磁控電源，恒流輸出，克服靶中毒。 磁控濺射全自動鍍膜設備技術參數說明 設備型號
zck-1200
zck-1400
zck-1600
zck-1800
真空室尺寸
1200×1500
1400×1950
1600×1950
1800×1950
制膜種類
多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
電源類型
直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
圓柱靶
直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶
真空室結構
立式雙開門、立式單開門
真空系統
滑閥泵＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：分子泵、深冷泵、深冷系統）
充氣系統
質量流量控制儀（1-4路）
極限真空
6×10－4pa（空載、凈室）
抽氣時間
空載大氣抽至5×10－3pa小于15分鐘
工件旋轉方式
6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
控制方式
手動＋半自動＋全自動一體化/觸摸屏＋plc
備注
真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做

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肇慶市振華真空機械有限公司深圳辦事處
劉書龍
13699750990
深圳市南山區科技中二路深圳軟件園1棟5樓

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