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光掩模基版 勻膠鉻版 空白光罩(小面積)普照牌



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普照牌 光掩膜基版 勻膠鉻版 空白光罩(小面積)的詳細描述:????光掩膜基版(勻膠鉻版、空白光罩)的詳細描述:?????勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料(相當于照相用的感光膠卷)。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射(sp)沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版,再在其上涂敷一層光致抗蝕劑(又稱光刻膠)或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。  光掩膜基版是制作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。簡單地說,光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版。  勻膠鉻版具有高的感光靈敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長等特點,當前被廣泛應用于ic、lcd、pcb、pdp、dot等產品掩膜版的制作。

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